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真空电源
  • 通过可变波形提高精确度,为双阴极系统设计的双极性脉冲电源。
  • 激发能确保镀膜质量优异的高密度等离子体,高功率脉冲磁控管溅射(HIPIMS)电源可助您获得出色的镀膜结果。
  • 每种磁控溅镀工艺都能得到偏压电源支持:TruPlasma Bias 3000 / 4000 偏压电源系列是用途广泛、先进的直流偏压电源。无论对于在材料预处理、干刻和偏压膜层的沉积等应用,还是对于PVD技术中使用的各种靶材,TruPlasma Bias 3000/4000偏压电源系列是您的最佳选择。
  • 利用真空电弧离子镀获得性能优异的硬质镀膜,利用真空电弧离子镀获得性能优异的硬质镀膜!
  • 用于微观工艺的宏观产品,射频电源系列可以使加工工艺具有极高的稳定性,因此常常被应用在微型元件的生产中。在其他电源方案无法有效实施的时候,该系列电源将助您成功。
  • 确保大面积和高溅镀率的专业产品,中频电源系列众多优点集于一身:相对于直流电源系列,具有更高的稳定性;相对于高频电源系列,解决方案更为经济。对于高沉积率的大面积磁控溅镀工艺是理想的电源。在双磁控管的应用领域,中频电源是建筑玻璃设备和金属镀膜设备中的核心组件。
  • 等离子体激发领域的杰作,等离子激发技术是最经济的入门级技术。等离子体激发直流电源系列可以用于磁控溅镀的单阴极系统、双阴极系统,以及基材的磁化处理。
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